Produkter

JX-1 enfas nedsänkt kylvätska kan ersätta datacentrets traditionella värmeavledning som en plats för datoranvändning, lagring och informationsutbyte, vilket säkerställer en långsiktig stabil och

CAS-NR: 406-78-0. Låg ytspänning, låg viskositet, god vätbarhet. Utmärkt materialkompatibilitet (ej kompatibel med vatten). Bra termisk stabilitet, säkerhet, icke-brännbar, ODP utgångssäsong, ingen

Hydrofluoroether HFE 347 har utmärkta egenskaper: som bra ljusabsorption, hög densitet, låg viskositet, låg dielektricitetskonstant och god löslighet.. Låg ytspänning, låg viskositet, god vätbarhet.

Metylenkloridlösningsmedel kan användas som lösningsmedel i harts- och plastindustrier och används ofta inom medicin, plast och andra industrier..

Fint PTFE-hartspulver har många fördelar, såsom hög kemisk beständighet, inte lätt att vidhäfta, hög temperaturbeständighet, bra elektrisk isolering, etc.

Har hög draghållfasthet och god töjbarhet, kan göra tätningstejp.. För att göra vitt extruderat rör.. Denna produkt kan bearbetas solid kärnstång, den är vit efter sintrad och lätt att göra delar av

Som ett tredje generationens skummedel kan HFC-245fa ersätta HCFC141b för styva polyuretan (PU) och polyisocyanuratskum som används i isolering för kylar och frysar, sprayskumisolering.. Det är

1,1,1,3,3-pentafluorpropan (HFC-245fa) används ofta som skummedel, kylmedel, rengöringsmedel, termiskt medium, aerosoldrivmedel, etc.

R245fa är ett fluorkolväte (HFC). Det används för nya installationer som ett specialiserat köldmedium inom industriell luftkonditionering, luftkonditionering i byggnader, Organic Rankine Cycle (ORC)

Höga 99,999 % C318 perfluorcyklobutan är en elektronisk gas som kan användas i storskalig -integrerad kretsetsning och rengöring i halvledarindustrin.

Oktafluorcyklobutan är en viktig organisk förening som har olika industriella användningsområden på grund av sina unika egenskaper.. Renhet: 99,9%~99,999%. Andra namn: Perfluorcyklobutan.

Oktafluorcyklobutan C4F8-gas, renhet: 99,999%. Den används ofta i halvledarprocesser PECVD (Plasma Enhance. Chemical Vapour deposition), C4F8 används som ett substitut för CF4 eller C2F6, som används